半導體行業酸堿廢氣塔PP花環填料R1/K2的原理：

半導體行業酸堿廢氣塔PP花環填料R1/K2也叫拉西環填充材料是一種高效率，低壓損的填充材料，外形猶如螺絲纏繞而成，當溶液與污染空氣相對沖擊形成霧狀之小水滴包圍整個填充材所有其效果不僅靠表面吸附，其吸附效果與管型填充材，馬鞍形填充材在壓降與容積都較好，所有特拉瑞德填充材在同等體積下可降低40℅～50℅之靜壓損失，在同等壓降下體積可減少35℅～50℅，且空隙率大物質轉移系數高，其處理效率比其他型填充材提高26℅～35℅；其材質可為PVC,PP,CPVC供選擇使用，并能符合新半導體法規。

產品介紹：    

半導體行業酸堿廢氣塔用的PP特拉瑞德環的分為R形和K形兩種，都是對泰勒花環填料的改進，R型特拉瑞德填料的主筋如入螺絲纏繞而成，并減去了邊筋，所以也被稱作無邊花環填料，K型特拉瑞德填料則是在泰勒花環填料的主筋外部平均分布很多刺型凸點，所以也稱做帶刺花環填料，其構思是不讓向下流的液體有流動死角。由于有很多彎曲枝叉和結合凸點，當溶液與污染空氣相對沖擊形成霧狀之小水滴包圍整個填料，其效果不僅僅靠表面吸附，所以特拉瑞德填料在同等體積下可降低40％～50％之壓力損失，且空隙率大傳質效率高，其處理效率比其它型鮑爾環或異鞍環等提高26％～35％；使液體能在填料層中均勻分布，能加強汽液的分布和混合，對提高傳質具有更好的作用。由于其結構上的特點，使填料的壓降減小，從而達到更節能的目的。半導體行業酸堿廢氣塔用的PP特拉瑞德環有空隙率大，不易被堵塞，通量大、阻力小等優點，且間隙處有較多的滯液量，使塔內液體停留時間較長，增加了氣液接觸時間，提高效率明顯。

由于這種填料的間隙處能有較高的滯液量，可使塔內液體停留時間較長，從而增加了氣液的接觸時間，提高了填料的傳質效率。聚丙烯填料具有空隙率大，壓降和傳質單元高度低，泛點高，汽液接觸充分，比重小，傳質效率高等特點，多用于氣體洗滌、凈化塔中。